【日本进口高纯度铝靶 Al靶_溅射沉积靶材】_价格_厂家_批发
2024-07-18 00:28:30
日本进口高纯度铝靶 Al靶产品详情
- 99.9999%以上:高纯度
- 6N以上:Al
- 铝粒:铝靶
- Al靶材:Al粒
- 品牌/厂家:其他
- 材质类型:金属靶材
- 牌号:Al靶
- 材料名称:铝靶
- 规格:6N
- 形状:圆形
- 用途:溅射镀膜
- 制备工艺:溅射
- 成份:99.9999%以上
对于常规系列以外的产品，我们可进行特别订制。
我们优势：高纯度、各种形状（粉末、颗粒状、线材、棒材、锭片、板材、片条材、箔材等）、
各种材质（纯元素、氧化物、氮化物、硫化物、氯化物、硅化物、卤化物、无机化合物、合
金）
产品介绍
·用于薄膜形成的材料
- PVD 材料
·溅射靶材（溶解工序品、烧结工序品）
·蒸镀材料
- CVD 材料
·用于层间绝缘膜形成的材料（TEOS、TMB、TMP、TEB、TMOP、TEOP、etc.）
·ALD 材料（3DMAS、TDMAH、Taimata、TEMAZr、etc.）
·高/强诱电体、电形成用材料（PET、HTB、etc.）
- CSD 材料（MOD 涂层、液化凝胶涂层）
种高纯度金属产品
※You can scroll to the side.
| Al | ～6N | Mn | ～4N |
| Co | ～4N5 | Sn | ～5N |
| Cu | ～6N | Ti | ～5N |
| In | ～5N | Zn | ～5N |
| Mg | ～4N5 | 其他各种合金 | |
